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2004.2.18--經濟日報-新芳乾式研磨技術臻奈米水準
新芳乾式研磨技術臻奈米水準
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新芳機械公司繼去年成立粉末高科技研究中心受到產官學界認同外,今年更以乾式研磨技術,研磨出達到個位數2.36 nm的奈米細度粉末,並經國科會南部貴重儀器中心以TEM顯微照相證實無誤,成為國內首家將研磨設備做到奈米產品應用的專業廠商。
該公司總經理張仁鴻表示,隨著生物科技的日新月異,客戶對於產品的細度要求愈來愈嚴苛,也讓國內製造研磨設備的廠商,莫不竭盡心力發展可使研磨物細微化的設備。如今,新芳機械已突破舊有研磨技術窠臼,領先同業研磨出達到個位數2.36 nm的奈米細度粉末。
張仁鴻指出,以往粉末細度解析,大多以光學顯微鏡(OM)或者掃描電鏡(SEM)分析,而新芳所研磨出的奈米級粉末,委託成大航太工程研究所中的噴霧與金屬粉末實驗室,透過國科會貴重儀器中心的TEM穿透顯微照相設備,將奈米化後的奈米粉體團聚現象,以特殊穿透儀完整做好粒徑量測,其中發現,有些物質經奈米化後測量不到所內含主成份,係因該成份已進入原子狀態,形成新微量元素,因而產生特殊的奈米材料功能,此即為奈米化後原材料特性的增益改變。
張仁鴻說,此次檢測的粉體包括遠紅外線陶瓷材料、二氧化鈦、二氧化鈣及珍珠粉,均是在一百萬倍電鏡下量測,所有數值全部經由該國家級實驗室量測核發,也證明新芳機械對於研磨設備的研發製造絕對是國際級水準。
【2004-02-18/經濟日報/41版/自動化及設備專輯】 |
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