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2004.6.8-經濟日報--競爭力大躍進 新芳推出奈米細度粉末技術領先
競爭力大躍進 新芳推出奈米細度粉末技術領先
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致力研製研粉設備的新芳機械公司，日前以物理乾式研粉技術，研粉粒徑達到個位數 2.36 nm 的奈米細度粉末，並經國科會南部貴重儀器中心以 TEM 顯微照相證實無誤，成為將研粉設備做到奈米產品應用的專業廠商。
該公司總經理張仁鴻表示，國內其他研粉機台，頂多只能做到微米（um）級粉末，若要達到百萬目（細度單位）奈米（nm）級粉末，仍有一段距離。新芳突破研粉技術窠臼，領先同業技術達到個位數 2.36 nm 的奈米細度粉末，這不僅是技術上一大突破，對於各產業的材料應用，也將因奈米化而有更好的功能機制及效率，提升產品在市場的競爭力。
張仁鴻說，以往粉末細度，大多以光學顯微鏡（OM）或者掃描電鏡（SEM）分析，在國內還未制訂奈米認證的情況下，為精確量測粒徑，委託國立成功大學航太研究所採用高精密的穿透式電子顯微鏡 TEM，實際可放大的倍率範圍高達 150 萬倍，可以觀察奈米世界的物質，正確量測的粉末粒徑。
該奈米級特殊超微研粉機採用分子碰撞原理，突破現今奈米的極限，且產量更大，遠遠超過歐美日同級。目前可奈米化的材料包括光觸媒材料、各項金屬氧化物、遠紅外線材料、各類礦石、煤炭等，各種含糖質、油質或黏質的高難度粉末研製。
【2004-06-08/經濟日報/12版/自動化工業】 |
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