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新芳超微珍珠粉
新芳超微珍珠粉量測資料庫
珍珠粉之微結構影像分析及物理特性解說
珍珠經分子擠壓撞擊,呈現不規則的形狀,大的顆粒約在100nano上下,較小的顆粒被吸附在大顆粒的表面;及圖中呈現黑色之烏雲狀的粒子,即是原子雲狀態,已超過儀器的偵測極限值,其粒徑尺寸為1010,約介於0.1-0.9 nano之間,這些粒子皆從分子擠壓撞擊產生,會釋放材料表面電位,而產生生物活性與磁場的作用力。奈米粒子本身大粒子會吸附小粒子,且會有團聚現象,其原因即上所述之電子活性釋放之凡德瓦力作用力。
萬物的組成皆由能量堆積而成,透過奈米技術把儲存在物質內部的能量打開加以利用,如遠紅外線材料的應用技術,因共架儲存在物質內部的能量,沒有經過微細化是無法釋放的。越細的粉體其電子活動係數越大,如:原子雲狀態的粒子越微細越敏銳,利於生物生長信號的傳導與啟動。在粉體研粉生產的製程中,不可能規格化全部呈現原子雲狀態的超微粒子,研粉在加工程序中,控制生產細度越高,其粉體中所含超微細的粒子越多,也是形成粒徑顆粒數比率通過100 nano以下的主要原因,甚至其中會產生更細之原子雲狀態的粉體,皆是由大分子擠壓撞擊自然而形成的小分子粒子。
從TEM電子顯微鏡影像分析,除了發現小於100nano的粉體之外,其粒徑呈現大小不均,且形狀不一的分布,大顆粒粉體表面吸附較小粒徑的粉體,其顆粒分布中均沾滿更小原子雲狀態的小分子粒子,此現象皆因粒子磁場的作用力所產生,因材料本身內部電位的釋放與凡德瓦力的作用,使粒子團聚在一起,並釋放能量。越大的粉體其磁場作用力越大,越小的粉體其電子活動係數越大,能量釋放愈敏銳,故較小的粉體粒子即衛星顆粒會被吸附在較大粒徑的粉體顆粒表面。
一般的雷射分析儀(如:動態光原理、布朗運動原理)皆無法量測出粉體的真實粒徑,僅能作為粒徑初步鑑識參考,當雷射分析儀偵測到粒徑體積比率已經接近1 -3 micron的粉體,表示粉體即可能是奈米的尺寸,故須以TEM電子穿透顯微鏡加以深入證實。一般雷射分析儀要偵測到真實粒徑在1-3 micron以下的粉體,量測技師本身是要有相當的量測技術與經驗,包括粉體占稀釋液的比率與如何選擇適當的稀釋溶劑做分散都要掌握適當,包括了吸光係數與折射率的參數設定都要正確。若量測樣品沒做好完整的分散,其量測誤差會很大,容易把1 micron上下的粉體,因團聚現象,造成儀器誤判成5-10micron的粒徑;甚至更細的奈米粉體也因嚴重團聚,會誤判斷成20-30 micron。新芳奈米科技有限公司長達數十年的研究與量測經驗,與業界分享,粉體做雷射分析的檢測,一定要確實做好量測樣品的分散,這是國內大學常見的問題,簡言之,雷射分析只能做初步鑑識使用,不可做為證明使用。
人類的科學在進步,但儀器還沒跟上腳步,唯有使用超高造價之精密儀器TEM電子穿透顯微鏡方可證實真實的粒徑與影像,並可打成分分析(EDS),藉由影像穿透掃描分析,了解真實奈米粒子的微結構與可利用性之研發探討。國科會南部貴儀中心TEM電子穿透顯微鏡量測照相數據
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